专利分析简单来讲，就是为了回答两个问题，即当前相关领域的重点技术有哪些，以及技术发展趋势是什么。一份好的专利分析报告需要对这两方面做出准确和全面的回答。今天，笔者就如何做好专利分析中的“技术发展趋势”进行一些简单的探讨。
“技术发展趋势”分析的意义
专利分析将孤立的专利信息按照不同的聚集度，使专利由普通的信息转化为有价值的专利竞争情报，从专利这一特殊的视角给企业、行业提供技术发展的具体趋势，包括当前的技术热点和动向、企业布局的技术空白点等等。在企业层面，可以帮助企业了解技术的发展趋势和未来市场前景，以指导企业的技术研发和产品创新;在行业层面，可以了解整个行业的发展现状，确定未来发展方向，从而帮助行业更好的进行战略布局。总之，通过专利分析可以帮助企业和行业了解发展趋势，制定相关的发展战略，具有重要的意义。
“技术发展趋势”的特征识别
有什么样的表现才是“技术发展趋势”?可以从技术方向的变化、技术领域的扩展以及技术实现模式的更新三个方面进行特征识别。
首先考虑技术方向的变化。随着第四次工业革命的快速发展，专利技术发展方向正在快速变化，从传统的机械制造、化学工程等领域转向数字化、智能化、技能环保等方向，并且随着人工智能AI的高速迭代，对技术方向的影响也越来越凸显。
其次，要关注技术领域的扩展。随着技术的不断进步，有些原本看似毫不相干的领域之间也会出现交叉，新技术领域也会不断扩展，例如纳米技术、信息技术、生物技术、认知科学的交叉等，使专利技术领域的变化愈发多元化。
此外，需要注意技术实现模式的更新。技术实现模式的变化推动了专利技术的发展，移动互联网、区块链和人工智能等新技术，为专利技术的应用提供了新的实现模式，例如利用物联信息系统(CPS)将生产中的供应，制造，销售信息数据化、智慧化，最后达到快速，有效产品供应的工业4.0.
“技术热点和动向”分析
在专利分析中，技术热点和动向可以通过以下几个步骤来确定：收集相关专利文献、专利文献分类整理、分析专利技术热点以及观察技术发展方向。对于收集文献和分类整理，可以参考文章“Fact&Opinion-专利分析中的事实与观点”。
对于专利技术热点和发展方向，可以从收集到的专利文献中，识别出高频出现的技术分支，确定出技术热点以及发展方向，例如，某种技术的专利数量逐年增长，或者出现了新的技术应用领域等。可以通过趋势图、技术分布图、专利地图等进行分析。
如图(数据来自himmpat，检索日期2023年3月)所示，经过比较，技术分支1和2在近几年，特别是21和22年的专利申请呈现快速增长的趋势，而对应的技术分支3和4.近年的申请数量没有明显的变化。因此，技术分支1和2属于技术热点，也是未来的发展方向。
图 数据来自himmpat，检索日期2023年3月
图 数据来自himmpat，检索日期2021年6月
如图(数据来自himmpat，检索日期2021年6月)为创新主体在泵与电机领域的技术研究分布图。蓝色和绿色区域为两家主要创新主体甲与乙的专利布局情况，其中可以看出，创新主体甲的技术领域涉及面很广，主要集中在离心泵、电动机和循环泵领域，创新主体乙主要集中在电动泵、泵单元和传感器这几个技术分支。通过技术研究分布图可以清楚的了解不同创新主体的研究热点。
图 数据来自himmpat，检索日期2022年11月
如图(数据来自himmpat，检索日期2022年11月)为某二次电池正极材料的专利地图，专利地图通过等高线来表示专利分布的高峰与洼地，从地图中可以看出，相关专利聚类之后，主要集中在原材料以及电池的主要性能上。对于原材料而言，研究热点为硝酸锂、氧化钴以及复合氧化物颗粒，对于硫酸锰、氧化钴的关注则较少;至于电池的性能，技术人员最为关注充放电特性，其属于研究热点。
“技术空白点”分析
在专利分析中，企业专利布局中的空白区域需要与技术发展方向结合起来才能确定为真正的“技术空白点“，这也是“技术空白点”能够展示技术发展趋势的原因所在。专利分析人员通过对所收集到的专利文献进行分析，识别出专利申请数量较少，但技术前景广阔，或者有发展潜力的领域，才是技术空白点。例如，某些技术领域只是还没有形成良好的商业化模式或处于行业爆发的前期。
对于专利分析中的专利布局空白区域，需要深入分析布局空白的原因及技术前景，可以采用以下路径进行研究：
●确定布局空白区域：首先对相关领域内的专利布局进行分析，找出空白区域具体位置和大小。
●寻找原因：对空白区域进行分析，包括技术可行性、研发成本、性价比、市场需求等方面，找出空白区域形成原因。
●技术前景评估：对于随着研发不断深入，技术可行性较高、研发成本降低、市场需求较大的空白区域，可以认为其应用前景会比较好;也可以对技术发展情况、商业应用前景等方面进行评估，以确定空白区域的发展前景。
●行业分析：对于某些领域内出现的空白区域，还需要进行行业分析，包括了解相关领域的供应链和市场规模情况，判断是否有足够的市场和利益空间，使得新技术能够成功地进入市场。
可以采用旭日图、功效矩阵图并结合上述分析方法来确定有价值的技术空白点。
图 数据来自himmpat，检索日期2022年8月
如图(数据来自himmpat，检索日期2022年8月)为某技术领域的旭日图，其中橙色区域为产业链上游，蓝色为产业链中游，绿色为产业链下游。可以看出，在该领域中，研究主要集中在上游的感知系统、通信系统、决策系统;中游的自动驾驶应用系统;而下游的具体应用布局相对较少，存在较多空白区域。同时结合该领域技术发展以及市场需求情况，综合可以判断下游的应用服务为“技术空白点”，需要重点关注。
图 数据来自：《产业分析报告(第3册)：切削加工刀具》，杨铁军，知识产权出版社，2012年，101-126
如图(数据来自：《产业分析报告(第3册)：切削加工刀具》，杨铁军，知识产权出版社，2012年，101-126)展示了切削加工刀具涂层领域的技术功效矩阵，结合该领域的专利申请趋势可以发现，提高单层和多层涂层的耐磨性以及耐热性属于技术发展的热点，而除此之外存在较多的技术空白区域。进一步分析可以发现提高纳米涂层的耐热性属于比较有发展潜力的技术突破点，近期的申请量快速增加，科研人员提供了较多的研发思路，可以将其作为“技术空白点”。
总结一下：专利分析对于企业和行业了解发展趋势，制定发展战略有重要意义，可以从技术方向的变化、技术领域的扩展以及技术实现模式的更新来识别“技术发展趋势”的特征，通过对“技术热点和动向”、“技术空白点”的研究来确定具体的“技术发展趋势“。
