ISO10110系列国际标准
ISO 10110 是一系列用于光学加工与检验、光学元件及系统的技术图纸绘制及其技术要求的国际标准。 该标准始于 1979 年，由 ISO/TC172/SCI/WG2 起草，并于 1996 及 1997 年分两部分内容正式颁布实施。ISO 10110 的基础来自于德国标准 DIN 3140.但起草专家组成员在光干涉术、表面计量术以及激光技术等领域赋予了许多新的内容。
ISO 10110 系列标准包含多个部分，每部分针对光学元件和系统的不同方面进行了详细规定。以下是一些主要部分的内容概述：
ISO 10110-1：概述
提供了 ISO 10110 系列标准的总体介绍和框架。
ISO 10110-2：光学材料缺陷应力双折射
规定了光学材料中应力双折射的允许值及其测量方法。
ISO 10110-3：光学材料缺陷气泡与杂质
定义了光学材料中气泡和杂质的分类、允许数量及尺寸等要求。
ISO 10110-4：光学材料缺陷非均匀性与条纹
描述了光学材料中非均匀性和条纹的评估方法及允许范围。
ISO 10110-5：面形偏差
规定了光学元件表面形状偏差的公差要求，包括弧矢差、不规则度、旋转对称不规则度等参数的测量和计算方法。
ISO 10110-6：中心偏差
定义了光学元件中心偏差的允许范围及其测量方法，包括基准点、线量形式表达的中心误差等。
ISO 10110-7：表面缺陷偏差
规定了光学元件表面缺陷(如划痕、麻点、破边等)的允许数量、尺寸及评估方法。
ISO 10110-8：表面微观轮廓
描述了光学元件表面微观轮廓的测量和评估方法，包括粗糙度、波纹度等参数。
ISO 10110-9：表面处理和镀膜
规定了光学元件表面处理和镀膜的要求，包括镀膜材料、厚度、均匀性等方面的规定。
ISO 10110-10：元件技术要求的格式
提供了光学元件技术要求在图纸上的表示方法和格式要求。
ISO 10110-11：非公差数据
定义了光学元件图纸中非公差数据的表示方法和要求。
ISO 10110-12：非球面
规定了非球面光学元件的设计、制造和检验要求。
ISO 10110-13：激光辐射破坏阈值
定义了光学元件在激光辐射下的破坏阈值及其测量方法。
ISO 10110 系列标准为光学元件和系统的制造、检验及质量控制提供了全面、详细的技术规范，对于确保光学产品的质量和性能具有重要意义。
