部分集成电路设计企业对于申请布图设计登记能为企业带来多少好处不是很了解，也担心技术会因此泄密。笔者就集成电路布图设计登记申请进行介绍。
根据布图设计保护条例，布图设计权利人享有的权利如下：
1. 对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
2. 将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
未经权利人许可的以下行为构成侵权：
1. 复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；
2. 为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。
布图设计专有权的保护范围不包括制造行为，而且比专利的垄断性保护力度要小，但申请保护的门槛也相应较低，只要具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且不是公认的常规设计即可。
通过反向工程，获取他人的技术秘密是合法的，但通过此途径获取已申请布图设计保护的方案，则构成侵权行为。因此在技术秘密难以有效保护的情况下，比如企业的内部机制难以有效防止秘密外泄，或者技术方案容易被竞争对手通过反向工程获取等，可考虑申请布图设计登记进行保护。
布图设计所享有的权利，并不仅是将布图设计作为整体进行保护，对于设计中任何一个具有独创性的部分也进行保护，这样，即使竞争对手对于非法获取的整体方案进行改动，只要有些设计模块没有相应更改，比如一些不容易绕开的模块，那么也构成侵权。
在钜泉光电诉上海雅创等侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案中，法院认为布图设计中的那些基本电路或者起辅助性功能的部分只要满足独创性以及非公认的常规设计也应受到保护。
布图设计专有权的侵权行为成立的，权利人可要求侵权人立即停止侵权行为，并承担赔偿责任，包括权利人为制止侵权行为所支付的合理开支，比如律师费、公证费等，这在一定程度上有效地支持了权利人进行维权。
布图设计的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。
我国对集成电路布图设计保护实行登记保护的原则，保护的起始时间为布图设计申请日，布图设计的商业利用时间在先，并不意味着其布图设计专有权权利应优先受到保护。并且，登记申请需在世界任何地方首次商业利用之日起２年内提出。
企业关于申请布图设计登记后可能泄密的担忧是可以理解的。确实，布图设计登记公告后，公众可以查阅布图设计的复制件或者图样，有观点认为 这是类似于专利制度的“公开换保护”的原则，尽管该观点存在争议。申请布图设计登记时，申请者需要提供布图设计的复制件或者图样，可选提供的是布图设计的电子版，如果已投入商用，则样品也需提供。但公众只能查阅复制件或图样的纸件，并不能获取电子版，以及样品。
企业关于申请布图设计可能泄密的担忧可以通过在申请登记时申明有保密信息来解决，保密信息的比例可达到整个布图设计的50%，保密信息部分不对公众公开。需要注意的是申请保密信息要求在申请日前该布图设计尚未投入商业利用
根据布图设计保护条例，布图设计权利人享有的权利如下：
1. 对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
2. 将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
未经权利人许可的以下行为构成侵权：
1. 复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；
2. 为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。
布图设计专有权的保护范围不包括制造行为，而且比专利的垄断性保护力度要小，但申请保护的门槛也相应较低，只要具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且不是公认的常规设计即可。
通过反向工程，获取他人的技术秘密是合法的，但通过此途径获取已申请布图设计保护的方案，则构成侵权行为。因此在技术秘密难以有效保护的情况下，比如企业的内部机制难以有效防止秘密外泄，或者技术方案容易被竞争对手通过反向工程获取等，可考虑申请布图设计登记进行保护。
布图设计所享有的权利，并不仅是将布图设计作为整体进行保护，对于设计中任何一个具有独创性的部分也进行保护，这样，即使竞争对手对于非法获取的整体方案进行改动，只要有些设计模块没有相应更改，比如一些不容易绕开的模块，那么也构成侵权。
在钜泉光电诉上海雅创等侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案中，法院认为布图设计中的那些基本电路或者起辅助性功能的部分只要满足独创性以及非公认的常规设计也应受到保护。
布图设计专有权的侵权行为成立的，权利人可要求侵权人立即停止侵权行为，并承担赔偿责任，包括权利人为制止侵权行为所支付的合理开支，比如律师费、公证费等，这在一定程度上有效地支持了权利人进行维权。
布图设计的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。
我国对集成电路布图设计保护实行登记保护的原则，保护的起始时间为布图设计申请日，布图设计的商业利用时间在先，并不意味着其布图设计专有权权利应优先受到保护。并且，登记申请需在世界任何地方首次商业利用之日起２年内提出。
企业关于申请布图设计登记后可能泄密的担忧是可以理解的。确实，布图设计登记公告后，公众可以查阅布图设计的复制件或者图样，有观点认为 这是类似于专利制度的“公开换保护”的原则，尽管该观点存在争议。申请布图设计登记时，申请者需要提供布图设计的复制件或者图样，可选提供的是布图设计的电子版，如果已投入商用，则样品也需提供。但公众只能查阅复制件或图样的纸件，并不能获取电子版，以及样品。
企业关于申请布图设计可能泄密的担忧可以通过在申请登记时申明有保密信息来解决，保密信息的比例可达到整个布图设计的50%，保密信息部分不对公众公开。需要注意的是申请保密信息要求在申请日前该布图设计尚未投入商业利用
